Un ancien d’ASML aide la Chine à développer une source lumineuse EUV cruciale

La Chine franchit une nouvelle étape dans le développement de ses propres machines de lithographie avancées. Une équipe de recherche dirigée par Lin Nan, ancien scientifique d’ASML, a progressé sur une source lumineuse EUV, un élément crucial pour fabriquer les puces les plus avancées.

Cette avancée est importante pour Pékin, qui cherche à réduire sa dépendance aux technologies occidentales dans les semi-conducteurs. L’écart avec ASML reste toutefois considérable. Le fabricant néerlandais de machines pour l’industrie des puces dispose de systèmes nettement plus puissants et conserve plusieurs années d’avance technologique.

La Chine progresse sur une source lumineuse clé

Les puces modernes sont produites en imprimant des motifs extrêmement fins sur une plaquette de silicium. Pour cela, ASML utilise des machines dites EUV. Cet acronyme désigne la lumière ultraviolette extrême, qui permet de graver des détails bien plus petits qu’avec les technologies plus anciennes.

Les chercheurs chinois avaient déjà mis au point l’an dernier une source lumineuse EUV expérimentale affichant un rendement de conversion de 3,42 %. Autrement dit, 3,42 % de l’énergie du laser utilisé est transformée en lumière EUV exploitable.

Pour une installation de recherche, le résultat est solide. Il dépasse même les performances déjà obtenues par plusieurs centres de recherche occidentaux. Les systèmes commerciaux d’ASML affichent toutefois depuis plusieurs années des rendements de conversion nettement supérieurs. Ils produisent en outre beaucoup plus de lumière.

Le système chinois délivrerait entre 100 et 150 watts. Les machines EUV commerciales les plus récentes produisent environ 600 watts. Cet écart est déterminant, car une source lumineuse plus puissante permet à une usine de fabriquer davantage de puces dans le même laps de temps. ASML prévoit de livrer cette année environ soixante machines EUV et travaille aussi sur des sources lumineuses encore plus puissantes, de 1 000 watts.

ASML conserve une large avance

Lin Nan a auparavant travaillé chez ASML aux Pays-Bas, où il a participé au développement de sources lumineuses destinées aux équipements de mesure. Cette expérience joue désormais un rôle important dans le programme de recherche chinois.

Une machine EUV ne se résume toutefois pas à une source lumineuse puissante. Elle nécessite aussi des miroirs d’une extrême précision, des systèmes de mouvement très avancés et des logiciels complexes. Tous ces éléments doivent fonctionner ensemble presque sans erreur, à l’échelle de quelques nanomètres.

Selon Reuters, la Chine dispose désormais d’un prototype capable de générer de la lumière EUV. La machine n’est cependant pas encore en mesure de produire des puces exploitables. Les systèmes optiques, qu’ASML développe avec l’allemand Zeiss, restent notamment un défi technique majeur.

La Chine se rapproche donc d’un composant essentiel de la technologie d’ASML, mais ne dispose pas encore d’une machine de lithographie équivalente. Les chercheurs chinois visent les premières puces fonctionnelles en 2028. Les spécialistes estiment toutefois que 2030 constitue un calendrier plus réaliste.